阿摩線上測驗
登入
首頁
>
公職◆牙體技術學(三)
> 102年 - 102-1 相當專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24359
102年 - 102-1 相當專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24359
科目:
公職◆牙體技術學(三) |
年份:
102年 |
選擇題數:
80 |
申論題數:
0
試卷資訊
所屬科目:
公職◆牙體技術學(三)
選擇題 (80)
1 與全口義齒磨光面有接觸的口腔組織為:①殘嵴粘膜 ②硬腭 ③唇 ④頰 ⑤舌背 ⑥舌根 ⑦軟腭 (A)①④⑥⑦ (B)②③④⑦ (C)①③④⑤ (D)③④⑤⑥
2 由頭部的側面看,下顎咬合面前後呈現出之曲線稱為何者? (A)威爾生氏曲線(Wilson’s curve) (B)史比氏曲線(Spee’s curve) (C)甘伯氏線(Camper’s line) (D)史魯氏曲線(Snow’s curve)
3 全口義齒最常用之前後咬合參考平面為何者? (A)瞳孔間連線(interpupillary line) (B)甘伯氏平面(Camper’s plane) (C)彭維爾三角(Bonwill triangle) (D)法蘭克福平面(Frankfort plane)
4 要減少全口義齒的門齒導引角時,下列方法何者正確? (A)增加水平覆蓋 (B)增加垂直覆蓋 (C)水平覆蓋及垂直覆蓋皆減少 (D)水平覆蓋及垂直覆蓋皆增加
5 全口義齒之支持區域,上顎與下顎之比例大約為多少? (A)上顎 1 對下顎 1 (B)上顎 2 對下顎 1 (C)上顎 3 對下顎 1 (D)上顎 4 對下顎 1
6 全口義齒邊緣成型(border molding)之目的為何? (A)得到邊緣密封 (B)得到恰當之支持力 (C)獲得組織面之機能塑型 (D)獲得緩壓
7 有關個人牙托之敘述,下列何者正確? (A)由常備模托中選出適合各個人牙弓之牙托 (B)將金屬模托修整成適合各個人牙弓之牙托 (C)在研究用模型上另行製作適合各個人牙弓之牙托 (D)將選出之牙托,當作個人專用之牙托
8 個人牙托之邊緣製作時,須注意下列何者? (A)除上顎之腭後緣為防止敏感須更短些外,其他地方都只要比基底外形線短 2~3 毫米 (B)下顎的臼齒後墊部位及上顎腭後緣部位須長些,其他地方都只要比基底外形線短 2~3 毫米 (C)全部邊緣都只要比基底外形線短 2~3 毫米 (D)下顎的臼齒後墊部位及上顎腭後緣部位須更短些,其他地方則要比基底外形線短 2~3 毫米
9 製作個人牙托時,使用間隙劑(spacer)之主要目的為何? (A)提供緩壓 (B)防止口水入侵 (C)防止印模材收縮 (D)提供印模材空間
10 下列那些部位在全口義齒取模時須緩壓?①頦孔 ②門齒孔 ③頰棚 ④腭隆凸 ⑤下顎齒槽骨嵴 (A)①②④⑤ (B)①③⑤ (C)②③④ (D)①②③④
11 全口義齒以二階段法熱煮聚操作時,第一階段使用的溫度為何? (A)攝氏 45~50 度 (B)攝氏 55~60 度 (C)攝氏 65~70 度 (D)攝氏 75~80 度
12 圍盒(boxing)之目的為何?①保護取模之邊緣部完整 ②確保工作模型使用之厚度 ③防止石 膏溢流 ④節省材料與操作時間 (A)①②③ (B)②③④ (C)①③④ (D)①②④
13 全口義齒工作模型使用之超硬石膏,其混水比例(w/p ratio)比其他石膏低,理由為何? (A)結晶形狀不同 (B)結晶水較多 (C)結晶顏色不同 (D)含水量較低
14 下顎全口義齒在人工牙齒排列時的最後方位置為何? (A)臼齒後墊高度 1/2 處 (B)臼齒後墊前緣 (C)臼齒後墊後緣 (D)臼齒後墊最上緣
15 面弓轉移之目的為何? (A)將上下顎模型固定於咬合器上之固定位置 (B)將上下顎模型依各人垂直高度之不同,固定於咬合器 (C)將上下顎模型依各人上顎與髁關節之關係位置,固定於咬合器 (D)將上下顎模型依各人之咬合關係,固定於咬合器
16 下列有關全口義齒後障(postdam)之敘述,何者正確? (A)目的是圍盒時,防止後緣石膏溢流之封閉 (B)位於臼齒後墊處 (C)位於上下顎義齒邊緣最後延伸處 (D)為提供腭後緣封鎖之目的而做
17 有關全口義齒基底板製作之敘述,下列何者正確?①須使用可耐咬合壓強度之材料 ②邊緣須 短 2~3mm,以防影響咬合記錄 ③須預留排牙空間 ④須不受口腔溫度影響變形 ⑤多使用常 溫聚合樹脂 (A)①④⑤ (B)②④⑤ (C)①③⑤ (D)②③④
18 面弓轉移時最常使用之基準面為下列何者? (A)左右鼻翼耳珠線(naso-tragus line) (B)左右甘伯氏線(Camper’s line) (C)鼻根蝶鞍面(SN plane) (D)法蘭克福平面(Frankfort plane)
19 下列關於將全口義齒下顎工作模型在咬合器上固定之敘述,何者正確?①須先確立正確之顎間 關係 ②須使用裂模法 ③須利用面弓轉移 ④須先建立正確之髁導引度數 (A)① (B)①④ (C)②③ (D)②④
20 下列有關門齒導引記錄之敘述,何者正確?①須待門齒在患者口中試戴後進行 ②由前齒部之 水平覆蓋及垂直覆蓋決定 ③須記錄工作側之前齒路徑 ④須記錄平衡側之前齒路徑 (A)①②③ (B)①③④ (C)②③④ (D)①②④
21 有關全口義齒製作時,髁傾斜角度記錄之敘述,下列何者正確? (A)必須使用髁關節型(arcon)咬合器記錄 (B)咬合器之髁頭傾斜角須先設定在 30 度或 40 度 (C)記錄前須設定門齒導引之角度 (D)可使用髁頭在前突運動時之軌跡去記錄
22 經面弓轉移且已在咬合器固定之工作模型,如發現咬合位置有誤,再另取一正確之新咬合記錄 後,下列處置何者適宜? (A)拆下上顎模型,依新咬合記錄重新固定 (B)拆下下顎模型,依新咬合記錄重新固定 (C)拆上顎或下顎模型皆可,但須使用裂模法 (D)須先固定好新的咬合記錄後,始可拆下上顎之裂模模型
23 下列有關人工牙齒之敘述,何者正確?①陶齒基部有金屬釘與義齒基底結合良好,但材質較硬 ②樹脂齒材質較軟,故較易由義齒基底斷裂脫落 ③陶齒雖較硬,但牙床受衝擊力較大 ④樹 脂齒較可緩壓,但易磨耗 (A)①④ (B)①② (C)②③ (D)③④
24 在正常咬合狀態下,工作側是指下列何者? (A)在中心咬合位時,咀嚼側之位置 (B)咀嚼時,以門牙咬切食物時之位置 (C)下顎向右側時,左側也應咬到,兩側皆為工作側 (D)下顎行側方運動時,向右時工作側在右側,向左時即在左側
25 全口義齒之平衡咬合行側方運動時,上下顎應接觸之牙齒為:①工作側後牙 ②平衡側後牙 ③ 工作側門牙 ④平衡側門牙 (A)①②③ (B)③④ (C)①④ (D)①③④
26 下列有關全口義齒人工牙齒排平衡咬合時之敘述,何者正確? (A)後牙必須按照補償曲線排列 (B)人工牙齒都必須稍作選擇修磨,才可能達成 (C)選擇零度人工牙齒,較易達成 (D)髁導引須大於門齒導引
27 全口義齒人工牙齒排為平面咬合(monoplane occlusion)時,下列敘述何者正確?①要使用零度人 工牙 ②可減少牙嵴之側方受力 ③咀嚼壓力可減輕 ④無法達到平衡咬合 (A)①② (B)②③ (C)③④ (D)①④
28 全口義齒煮聚完成後,在技工室再裝載(remount)以修整咬合時,下列敘述何者正確? (A)必須事先以裂模法裝回咬合器原有的位置才能執行 (B)未採用裂模法之工作模型,煮聚後無法回復原模 (C)必須重作面弓轉移及重取咬合記錄始可操作 (D)只要以裂模法裝回原咬合器,即可執行
29 將蠟型義齒和工作模型包埋於煮聚盒中,可使用之包埋材有:①石膏 ②矽膠 ③瓊膠 ④石英 材 ⑤樹脂 (A)①②③ (B)③④⑤ (C)②④⑤ (D)②③⑤
30 全口義齒製作時,將樹脂填入煮聚盒中對咬合高度影響最大的方法為何? (A)美國式包埋加壓法 (B)灌入法 (C)法國式包埋加壓法 (D)以常溫聚合樹脂行流入法
31 全口義齒之樹脂以加熱聚合方式製作時,下列敘述何者正確? (A)一階段法時間較長,但樹脂收縮較大 (B)二階段法時間較短,但單體殘留量大 (C)一階段法時間較長,但樹脂強度較佳 (D)二階段法時間較短,但聚合較完全
32 全口義齒煮聚完成後之咬合調整,下述何者優先? (A)應先裝回咬合器上,進行調整 (B)在口中直接調整修磨 (C)工作側咬合修磨為最優先 (D)須先調成平衡咬合
33 利用上顎蠟型義齒包埋前,在重置位架(remounting jig)上取得之咬合面石膏齒型,以便假牙重 置位之目的為何? (A)可節省時間與材料 (B)中心咬合位較正確 (C)可減少面弓之誤差 (D)可維持原有上顎與髁頭間之相對關係
34 活動義齒之終接線(finishing line)是指下列何者? (A)上顎義齒震動線之最後緣 (B)人工牙齒排列之終止點 (C)下顎義齒臼齒後墊邊緣 (D)樹脂與金屬支架之交界線
35 覆蓋式義齒(overdenture)是指下列何者? (A)將所有缺牙部分之支持組織完全覆蓋起來之義齒 (B)將健康之殘留牙根留於齒槽,並加以覆蓋之義齒 (C)在牙床緩壓處經緩壓處理後,再行覆蓋之義齒 (D)腭部手術後,將口鼻間相通之孔洞覆蓋起來之義齒
36 全口義齒之上下顎門齒排列時之要求為何? (A)上下顎牙齒必須在中心咬合位時有接觸 (B)由中心咬合位至前突運動之範圍,上下顎牙齒必須一直保持接觸 (C)只要在下顎前突至切端對切端有上下顎牙齒之接觸即可 (D)必須達到平衡咬合時有持續的上下顎牙齒接觸
37 牙齒的排列和發音有極大關係。中文之「膚」音是屬於何種發音? (A)雙唇音 (B)唇齒音 (C)舌齒音 (D)舌齒槽音
38 全口義齒製作時,採用之錫箔代用品,其用途為何? (A)保護人工牙 (B)石膏分離劑 (C)緩壓使用材 (D)模型加固
39 下述有關樹脂之聚合,何者正確? (A)自聚樹脂比熱樹脂收縮要小 (B)自聚樹脂比熱樹脂之聚合完全 (C)自聚樹脂比熱樹脂之強度較佳 (D)自聚樹脂比熱樹脂之內應力(internal stress)較大
40 全口義齒之平衡咬合,如在平衡側有咬合干擾時,最優先考慮之修磨處為下列何者? (A)上顎舌側咬頭之舌面傾斜面 (B)上顎舌側咬頭之頰面傾斜面 (C)下顎頰側咬頭之舌面傾斜面 (D)下顎頰側咬頭之頰面傾斜面
41 在活動局部義齒組件中,抵抗義齒以垂直方向脫離牙嵴之組成結構為何? (A)間接固位體(indirect retainer) (B)主連接體(major connector) (C)直接固位體(direct retainer) (D)鉤靠(rest)
42 下顎甘迺迪第一類缺牙之患者,口中僅殘留 6 顆前牙,且舌側軟組織具有倒凹現象時,應設計 何種主連接體(major connector)較為適宜? (A)舌側槓(lingual bar) (B)舌側板(lingual plate) (C)顎槓(palatal bar) (D)前後顎槓(anteroposterior palatal bar)
43 下列敘述何者不是使用金屬基底(metal base)之優點? (A)強度高 (B)清潔維護簡便 (C)具美觀性 (D)具較佳之熱傳導性質
44 設計義齒基底金屬支架時,宜採用下列何種結構設計,以提供最大的基底樹脂固位作用? (A)網狀結構(mesh construction) (B)開放式結構(open construction) (C)珠粒式結構(bead construction) (D)鋼線式結構(wire construction)
45 採用兩部分包埋法(二層塗刷式)進行蠟型包埋時,塗刷第一層包埋材料的厚度至少需達多少? (A)1~2 mm (B)3~4 mm (C)5~6 mm (D)7~8 mm
46 在下列何項操作過程中所產生的錯誤,需藉由重置位(remounting)的執行加以修正? (A)灌製工作模型(model pouring) (B)析量(surveying) (C)以複製材料進行複製(duplication)模型 (D)填塞與煮聚壓克力樹脂(packing and processing )
47 進行圍盒(boxing)處理時,需將實用蠟(utility wax)放置於印模邊緣,並向外延伸多少距離? (A)1 mm (B)2 mm (C)3~4 mm (D)5~6 mm
48 下列何種主連接體(major connector)不適合應用於下顎牙齒缺失之活動局部義齒設計中? (A)舌側板(lingual plate) (B)舌側槓(lingual bar) (C)唇側槓(labial bar) (D)腭槓(palatal bar)
49 有關電解磨光(electropolishing)的敘述,下列何者錯誤? (A)需要的電流強度約為 2A/cm2 (B)電解液中所含的主要成分為磷酸 (C)利用切削形式進行支架磨光 (D)是一種去鍍化過程
50 以分模式包埋法(split-mold investing)進行義齒包埋時,下列何處不可塗佈分離劑? (A)模型表面 (B)每一層灌注之石膏表面 (C)人工義齒底部 (D)包埋盒之內側面
51 複製耐火模型(refractory cast)後,須進行表面處理,其主要目的為下列何者?①形成緻密表面 ②易於蠟型的製作 ③使模型硬化 ④使模型美觀 (A)①②③ (B)②③④ (C)①③④ (D)①②④
52 製作活動義齒時,利用包埋材(investment)所灌製的模型稱之為何? (A)耐火模型 (B)診斷模型 (C)工作模型 (D)平行模型
53 進行活動局部義齒設計時,連接主連接體(major connector)與鉤靠(rest)組件之部位,稱為下 列何者? (A)直接固位體(direct retainer) (B)小連接體(minor connector) (C)間接固位體(indirect retainer) (D)終接線(finishing line)
54 在無牙嵴區域貼製的緩壓蠟(relief wax)之厚度編號為何? (A)20~22 號 (B)24~26 號 (C)28~30 號 (D)32~36 號
55 直接固位體(direct retainer)的結構組件中,不包含下列何種構造裝置? (A)鉤靠(rest) (B)小連接體(minor connector) (C)固位性牙鉤(retentive clasp) (D)模型止位(cast stop)
56 下列那一種缺牙情形屬於牙齒支持式活動局部義齒? (A)甘迺迪第一類(class I) (B)甘迺迪第二類(class II) (C)甘迺迪第三類(class III) (D)甘迺迪第一類變異 1(class I modification 1)
57 下列那一顆支柱牙(abutment)不宜放置咬合鉤靠(occlusal rest)? (A)上顎小臼齒 (B)上顎大臼齒 (C)下顎犬齒 (D)下顎大臼齒
58 製作活動局部義齒時,下列那一種情況的患者適合採用精密附連體(precision attachment)之設計? (A)口腔衛生不佳者 (B)手部操作能力不良者 (C)具足夠高度與厚度之支柱牙 (D)牙周健康不良之支柱牙
59 為能正確記錄並取得上下顎之咬合關係,最不宜選用的是下列何種材料? (A)快速硬化牙科用硬石膏 (B)氧化鋅丁香油酚(zinc oxide-eugenol)咬合記錄糊劑 (C)蠟 (D)聚乙醚(polyether)咬合記錄膠
60 在模型複製過程中,為防止複製材料的變形與撕裂,在主模型上不必要的倒凹處,須進行何種手續? (A)平行封凹(parallel blockout) (B)成形封凹(shaped blockout) (C)任意封凹(arbitrary blockout) (D)緩壓(relief)
61 若上顎採用腭槓(palatal bar)作為主連接體(major connector)設計時,則其後緣不宜超越何處? (A)第一小臼齒 (B)第二小臼齒 (C)第一大臼齒 (D)第二大臼齒
62 製作活動局部義齒時,關於主連接體(major connector)之設計,在選用材料時應以何項性質為 主要考量因素? (A)耐磨性 (B)彈性 (C)抗拉強度 (D)剛硬性
63 甘迺迪第四類缺牙患者不宜設計下列何種主連接體(major connector)? (A)腭槓(palatal bar) (B)馬蹄型(horseshoe) (C)舌側板(lingual plate) (D)前後腭槓(anteroposterior palatal bar)
64 下列何者不屬於 RPI 的組成結構? (A)近心鉤靠(mesial rest) (B)遠心鄰接面板(distal proximal plate) (C)近心鄰接面板(mesial proximal plate) (D)I 型槓牙鉤(I-bar clasp)
65 下列何者不是常用的鉤靠(rest)型態? (A)舌側隆凸鉤靠(cingulum rest) (B)切緣鉤靠(incisal rest) (C)頰側鉤靠(buccal rest) (D)咬合鉤靠(occlusal rest)
66 最常作為放置舌側隆凸鉤靠(cingulum rest)的牙齒為下列何者? (A)上顎正中門齒 (B)上顎犬齒 (C)上顎小臼齒 (D)下顎小臼齒
67 當患者之硬腭區域具有嚴重之骨性隆凸(torus)時,應設計下列何種主連接體(major connector)? (A)腭槓(palatal bar) (B)前後腭槓(anteroposterior palatal bar) (C)腭帶(palatal strap) (D)舌側槓(lingual bar)
68 在下顎甘迺迪第一類活動局部義齒的遠伸性基底(distal extension denture)中,下列何者可作為 垂直壓力的主要承受區? (A)齒槽嵴頂(alveolar crest) (B)頰棚(buccal shelf) (C)臼齒後墊(retromolar pad) (D)舌側斜面(lingual incline)
69 製作活動局部義齒中採用 I 型槓系統(I-bar system)設計時,其鄰接板(proximal plate)應放置 於支柱牙的何處最為適當? (A)遠心頰側 (B)遠心側 (C)舌側 (D)近心頰側
70 下列何者為不須具備剛硬(rigidity)性質之小連接體(minor connector)? (A)連接牙鉤組件 (B)連接假牙基底 (C)連接間接固位體或輔助鉤靠 (D)連接槓式牙鉤(bar-type clasp)或漸進性鉤臂(approach arm)
71 欲製作活動局部義齒支架(framework)時,其最終之設計(final design)應描繪在下列何者? (A)工作指示書(authorization) (B)主模型(working cast) (C)診斷模型(study cast) (D)耐火模型(refractory cast)
72 製作下顎甘迺迪第二類活動局部義齒支架時,小連接體(minor connector)的設計須延伸至無牙 嵴的那一區域? (A)全部 (B)二分之一處 (C)三分之二處 (D)四分之一處
73 為減少食物滲入主連接體與組織之間,同時亦可增加主連接體與組織間的貼合性,主模型須進 行下列何種處理? (A)緩壓(relief) (B)封凹(blockout) (C)珠狀緣飾(beading) (D)析量(survey)
74 複製耐火模型時,常使用之高溫耐火材料是屬於下列那一種鍵結式之包埋材? (A)矽酸鹽鍵結 (B)磷酸鹽鍵結 (C)硫酸鹽鍵結 (D)硼酸鹽鍵結
75 製作活動局部義齒時,利用析量器(surveyor)所獲得的資訊中,下列敘述何者錯誤? (A)緩壓(relief)的區域 (B)支柱牙上需進行封凹(blockout)的區域 (C)牙齒豐隆最高點(height of contour) (D)支柱牙的引導面(guiding plane)
76 在假牙基底的組織面上添加一層新的材料,藉此恢復義齒基底與軟組織間的貼合性,此操作方 式稱為何者? (A)重置位(remounting) (B)換基底(rebasing) (C)珠狀飾緣(beading) (D)換底墊(relining)
77 製作下顎活動局部義齒時,下列那一個區域最常需要進行緩壓(relief)處理? (A)正中顎縫線 (B)主連接體之下緣 (C)軟硬腭交接處 (D)支柱牙的倒凹區
78 有關析量器(surveyor)操作使用之目的,下列敘述何者錯誤? (A)以碳色筆標示支柱牙的析量線(survey line) (B)以分析桿(analyzing rod)決定鉤靠(rest)的位置 (C)蠟刀(wax trimmer)用於封凹(blockout)的修整 (D)以倒凹量器(undercut guage)決定牙鉤尖端的位置
79 操作析量器(surveyor)時,對石膏模型傾斜的描述應以何種位置為基準? (A)以操作者自模型前方的觀點 (B)以操作者自模型後方的觀點 (C)以操作者自模型頰側的觀點 (D)以操作者自模型咬合面的觀點
80 活動局部義齒進行複製模型時,最常使用的複製材料為下列何者?①瓊膠(agar) ②藻膠 材料(alginate) ③矽膠印模材料(silicone rubber base) ④氧化鋅丁香油酚印模劑(zinc oxide-eugenol impression material) (A)①② (B)①③ (C)②③ (D)③④
申論題 (0)