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試題詳解

試卷：99年 - 099 中央警察大學_學士班二年制技術系入學考試_刑事警察學系：刑事鑑識概論#34000 | 科目：警大◆現場及證物處理與鑑識概要(刑事鑑識概論)

試卷資訊

試卷名稱：99年 - 099 中央警察大學_學士班二年制技術系入學考試_刑事警察學系：刑事鑑識概論#34000

年份：99年

科目：警大◆現場及證物處理與鑑識概要(刑事鑑識概論)

複選題
25. 有關掃描式電子顯微鏡及X-射線能譜分析，下列敘述何者正確？
(A) 可顯現射擊殘跡的形狀並能分析其特徵元素
(B) 它是以X-射線為光源
(C) 測量時檢體不必有導電性
(D) 電子顯微成像是因檢體表面產生二次電子及背向散射電子所引起
(E) 電子顯微鏡最大放大倍率與光學顯微鏡相當
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詳解 (共 2 筆)

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