23.組織內屏蔽塊（internal shielding）用於電子射束放射治療時，下列有關電子回散射（electron backscatter）劑量的敘述何者正確？
(A)隨電子射線能量增加而遞增
(B)回散射所在介面的電子能量若小於10 MeV，在軟組織中10%的回散射相對劑量影響範圍約為1 cm
(C)隨組織內屏蔽塊所用材質之原子序增加而遞減
(D)使用鉛為屏蔽材料時，若回散射所在介面的電子能量為5 MeV，則介面處的回散射相對劑量約為56%

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統計： A(578), B(273), C(407), D(447), E(0) #1384326

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#2342884
回散射↑：電子能量↓介質Z↑FOV↓距離...
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#2319190
請問有人解各個選項嗎，已翻書本q_q
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#6389541
(A) 隨電子射線能量增加而遞增 P28...

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#3756691
103-2-26
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放射治療物理學 第五版 P 288EBF...
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