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試題詳解

試卷：112年 - 112 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#115992 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱：112年 - 112 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#115992

年份：112年

科目：公職◆牙體技術學(三)

12 在製作全口活動義齒個人印模牙托時，關於緩壓（relief）的敘述，下列何者錯誤？
(A)藉此可達到選擇性加壓的印模
(B)受到咬合力會痛的地方需緩壓
(C)下顎頰棚處需緩壓
(D)臼齒後墊需緩壓
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詳解 (共 1 筆)

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未解鎖
1. 題目解析 在製作全口活動義齒時，...
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