18 關於全瓷冠支架（all ceramics frame）燒瓷前的熱處理，何者正確？
(A)用 1000℃進行 15 分鐘的支架熱處理
(B)用 1000℃進行 5 分鐘的支架熱處理
(C)用 2700℃進行 15 分鐘的支架熱處理
(D)用 2700℃進行 5 分鐘的支架熱處理

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統計： A(65), B(87), C(4), D(7), E(0) #900681