試題詳解

試卷：100年 - 經濟部第2次(100年) 全國性自來水事業技術人員考驗題目與答案_甲級_化驗人員#82115 | 科目：自來水事業技術◆化驗人員-甲級

試卷名稱：100年 - 經濟部第2次(100年) 全國性自來水事業技術人員考驗題目與答案_甲級_化驗人員#82115

年份：100年

科目：自來水事業技術◆化驗人員-甲級

24. 原子吸收光譜法的干擾中，基質干擾發生原因可能為______。
(A) 溶液中含有有機溶劑而造成吸收度的增加
(B) 因溶液的黏滯性較高因霧化效率下降而造成吸收度下降
(C) 溶液的鹽度較高而造成吸收度下降
(D) 以上皆是

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