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公職◆牙體技術學(三)
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100年 - 100 相當專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24375
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試題詳解
試卷:
100年 - 100 相當專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24375 |
科目:
公職◆牙體技術學(三)
試卷資訊
試卷名稱:
100年 - 100 相當專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#24375
年份:
100年
科目:
公職◆牙體技術學(三)
28 下列有關休憩間隙(free-way space)之敘述何者錯誤?
(A)下顎靜止位時,上下牙不互相接觸,其間隙稱之為休憩間隙
(B)在前牙區約為 2-3 毫米
(C)可做為決定全口義齒咬合高度之參考
(D)休憩間隙為最小發音間隙
正確答案:
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