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試題詳解

試卷：106年 - 106-2 專技高考_藥師、藥師（一）：藥物分析與生藥學（包括中藥學）#63723 | 科目：專技 - 藥物分析與生藥學(包括中藥學)

試卷資訊

試卷名稱：106年 - 106-2 專技高考_藥師、藥師（一）：藥物分析與生藥學（包括中藥學）#63723

年份：106年

科目：專技 - 藥物分析與生藥學(包括中藥學)

29.PIC/s GMP中規定，藥物（包括原料藥及製劑）的製造過程中須有溶劑殘留量的檢測，下列何者為常規使用 的方法？
(A)重量分析法
(B)氣相層析法
(C)紫外光光譜法
(D)質譜法
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GC —---------------...



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私人筆記#634198
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溶劑殘留>GC
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