試卷名稱：114年 - 114 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#129137
年份：114年
科目：公職◆牙體技術學(三)
35 關於活動局部義齒上顎主連接體（major connector）的設計，下列敘述何者正確？ (A)其邊緣須距離非承載區的牙齦緣 3～4 mm (B)需在上顎主模型的中間縫合線（median suture line）處進行緩壓處理 (C) 1.5 mm 珠緣（beading）的設計，可以確保上顎主連接體與底下組織的貼合 (D)上顎主模型所有覆蓋區域都應該進行緩壓處理
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