試題詳解

試卷：108年 - 110 臺灣港務股份有限公司從業人員甄試_員級_機械：機械製造學概要#106872 | 科目：港務局◆機械製造學概要

試卷名稱：108年 - 110 臺灣港務股份有限公司從業人員甄試_員級_機械：機械製造學概要#106872

年份：108年

科目：港務局◆機械製造學概要

36 下列關於微影製程之敘述何者不正確？
(A) 必須先設計製作光罩
(B) 須使用刷子將光阻劑均勻塗佈在晶圓上
(C) 曝光前，光阻須要經過烘烤，以去除光阻液中的溶劑
(D) 通常使用紫外線進行曝光

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