36 全陶瓷支架(all ceramics frame)的燒瓷前處理,下列何者錯誤?
(A)氧化鋯與瓷間的界面可能有化學結合存在
(B)氧化鋯的彎曲強度很強,在噴砂處理時(sand blast),須使用 125 μm 的氧化鋁進行全體支架的噴砂處理
(C)噴砂處理(sand blast)可提高氧化鋯的表面積
(D)在堆瓷塗層(layering)前未做支架熱處理(heat treatment)會導致瓷與支架間的融合性變差

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統計: A(38), B(345), C(46), D(36), E(0) #888566

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#5418832
邊緣部位50 μm 邊緣極細的緣端部位...
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