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試題詳解

試卷:112年 - 112 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#115992 | 科目:公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱:112年 - 112 專技高考_牙體技術師:牙體技術學(三)(包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目)#115992

年份:112年

科目:公職◆牙體技術學(三)

39 活動局部義齒製作時,關於封凹與緩壓的敘述,下列何者錯誤?
(A)複製模型製作前要在主模型上進行封凹與緩壓
(B)封凹與緩壓可以使支架順利配戴而不傷害組織
(C)齒槽殘嵴以及所有小連接體下方皆應進行緩壓
(D)所有與義齒設計相關的倒凹皆應進行封凹
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詳解 (共 1 筆)

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