4548 關於半導體工廠內引起化學性灼傷較嚴重的物質為下列何者？
(A) 二硫化碳
(B) 正己烷
(C) 氨氣
(D) 氫氟酸

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統計： A(3), B(2), C(3), D(7), E(0) #2145070