試題詳解

試卷：110年 - 110 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#100625 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷資訊

試卷名稱：110年 - 110 專技高考_牙體技術師：牙體技術學（三）（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#100625

年份：110年

科目：公職◆牙體技術學(三)

49 黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計，下列何者錯誤？
(A)義齒基底外形線的設計跟全口義齒同
(B)上顎需延長到鈎狀切跡（hamular notch）
(C)下顎頰棚由緻密骨組織所構成，義齒基底應避免覆蓋壓迫
(D)下顎義齒基底後緣要覆蓋至臼齒後墊（retromolar pad）之 2/3 以上

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