試題詳解

試卷：101年 - 101-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學(三)（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#24369 | 科目：公職◆牙體技術學(三)

試卷名稱：101年 - 101-2 專技高考_牙體技術師：牙體技術學(三)（包括全口活動義齒技術學、活動局部義齒技術學科目）#24369

年份：101年

科目：公職◆牙體技術學(三)

51 下列關於活動局部義齒石膏模型的敘述，何者正確？
(A)石膏模型的後緣應與基底呈 90 度
(B)石膏模型的基底應修至最薄處約 15 厘米厚度
(C)石膏模型的邊緣至少應有 5 厘米寬度
(D)石膏模型基底與咬合平面之夾角呈 20 度

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