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放射線診斷原理與技術學
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113年 - 113-2 專技高考_醫事放射師:放射線診斷原理與技術學#121691
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試題詳解
試卷:
113年 - 113-2 專技高考_醫事放射師:放射線診斷原理與技術學#121691 |
科目:
放射線診斷原理與技術學
試卷資訊
試卷名稱:
113年 - 113-2 專技高考_醫事放射師:放射線診斷原理與技術學#121691
年份:
113年
科目:
放射線診斷原理與技術學
58.有關磁振造影中的化學位移假影(chemical shift artifact),下列敘述何者正確?
(A)化學位移只出現在相位編碼的方向上
(B)由於不同分子中質子旋進頻率的不同,而產生化學位移
(C)降低採樣頻寬可以改善化學位移
(D)化學位移由梯度磁場決定,和B0磁場強度無關
正確答案:
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