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103年 - 103 台灣中油股份有限公司僱用人員甄試_煉製類、睦鄰-煉製類、安環類:理化#28349
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試題詳解
試卷:
103年 - 103 台灣中油股份有限公司僱用人員甄試_煉製類、睦鄰-煉製類、安環類:理化#28349 |
科目:
中油◆理化
試卷資訊
試卷名稱:
103年 - 103 台灣中油股份有限公司僱用人員甄試_煉製類、睦鄰-煉製類、安環類:理化#28349
年份:
103年
科目:
中油◆理化
61.半導體的製程中,矽晶片通常用下列何種物質來進行蝕刻?
(A)氫氟酸
(B)王水
(C)濃氨水
(D)濃硝酸
正確答案:
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詳解 (共 2 筆)
RYW
B2 · 2017/11/25
推薦的詳解#2504046
未解鎖
氫氟酸是用來蝕刻、清洗電路板....最常...
(共 27 字,隱藏中)
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小新
B1 · 2017/10/12
推薦的詳解#2443994
未解鎖
SiO2最常使用的侵蝕液為HF水溶液
(共 20 字,隱藏中)
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3
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私人筆記 (共 1 筆)
Terry Tung
2025/01/08
私人筆記#6636890
未解鎖
(共 0 字,隱藏中)
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