試題詳解

試卷：111年 - 111 台灣自來水公司_評價職位人員甄試_操作類-甲(機電)【含產學】、操作類-乙(淨水、管線、水源)、化驗類：高中(職)物理化學#113425 | 科目：台水評價◆高中(職)物理化學

試卷名稱：111年 - 111 台灣自來水公司_評價職位人員甄試_操作類-甲(機電)【含產學】、操作類-乙(淨水、管線、水源)、化驗類：高中(職)物理化學#113425

年份：111年

科目：台水評價◆高中(職)物理化學

8. 有關「干涉」的敘述，下列何者正確？
(A)兩波干涉合成振幅必加大
(B)兩波干涉合成振幅必減小
(C)兩波干涉合成頻率必變高
(D)兩波干涉後兩波波速不受影響

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芯

B1 · 2024/02/15

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未解鎖

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