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申論題資訊

試卷:110年 - 110 地方政府特種考試_三等_環境檢驗、化學工程:儀器分析#104880
科目:儀器分析
年份:110年
排序:0

題組內容

四、南部科學園區某半導體廠於今年 7 月底證實,其部分廠房來自廠商供應 的氣體疑似受污染。假設污染發生於該廠之氧氣槽,而氧氣乃與半導體 製造的關鍵工藝有關,包括目前技術之晶圓氧化矽的生成和未來技術之 垂直集成所需的晶體氧化物的研發。今欲直接監測其晶圓和研發成品之 化學組成,以確定排除污染。

申論題內容

(一)建議一個最適合的儀器分析方法(方法 A)來進行監測,並以至少 70 字,對次適合的儀器分析方法做比較,解釋為何方法 A 最為適合。 (4 分)