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申論題資訊

試卷:114年 - 114 地方政府公務特種考試_三等_化學工程:化學程序工業(包括質能均衡、分析化學、儀器分析)#134769
科目:化學程序工業(包括質能均衡)
年份:114年
排序:0

題組內容

二、某光電科技公司致力於生產高效率矽晶太陽能電池,製程中涉及矽晶片的蝕刻、清洗與薄膜沉積等步驟,並需使用到如氫氟酸(HF)等高腐蝕 性化學品。

申論題內容

 (一)請詳述矽晶太陽能電池製程中,化學蝕刻(Chemical Etching)的主要 目的及原理。(6 分)