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申論題資訊

試卷:110年 - 110 高等考試_三級_化學工程:化學程序工業(包括質能均衡)#102413
科目:化學程序工業(包括質能均衡)
年份:110年
排序:0

題組內容

四、化學氣相沈積法常被用在電子工業中形成薄膜。常見的一個化學氣相沈 積的反應是以矽甲烷(SiH4)形成多晶矽薄膜,其反應之機制如下:
616e69bb03162.jpg 其中(g)表示氣相,ads 表示吸附相,s 表示固相。雙箭頭表示達到平衡。 根據實驗觀察,此一反應會受到氫氣的抑制。在 SiH4 濃度高時,反應對 於 SiH4 而言,為零級反應(zero order) ,而當 SiH4 濃度低時,反應對於 SiH4 而言,為一級(first order)反應。

申論題內容

(二)請描述此一程序中需注意的工安與環保問題,及其處理方式。 (10 分)