申論題

一、某半導體廠於 25 ℃、1 atm 下排放之總廢氣流量為 1000 CMM（m³/min），該廢氣中 含有 HCl 及 H₂SO₄ 空氣污染物，其濃度值經檢測分別為 2500 與 2000 ppbv。而半導體 相關法規規定該廠 HCl 之排放量為不得超過 0.6 kg/hr，H₂SO₄ 則不得超過 0.1 kg/hr， 否則即需設置相關處理設施。 請問該廠應否設置相關處理設施，以符合法規需求？若需要設置防制設施，則其最 低處理效率為何？（原子量，H=1.0, Cl=35.5, S=32.1, O=16.0）（20 分）