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112年 - 112 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#115437
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申論題
試卷:112年 - 112 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#115437
科目:半導體工程
年份:112年
排序:0
申論題資訊
試卷:
112年 - 112 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#115437
科目:
半導體工程
年份:
112年
排序:
0
申論題內容
三、考慮一個陡峭(abrupt)P+N接面,兩邊的雜質濃度分別為N
A
與N
D
; N
A
>>N
D
。若接面處於平衡狀態,請由載子擴散、復合的觀點來說明接面 空乏區(depletion region) 、內建電場(built-in electric field)的生成機制, 並指出內建電場的指向。若接面由內建電場產生的內建電位為V
bi
,空乏區寬度為W;以空乏區近似法表出W與V
bi
的關係式。半導體的介電係數為 ε,單位電荷為q。(20分)