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申論題

試卷：108年 - 108 高等考試_三級_電子工程：半導體工程#77994
科目：半導體工程
年份：108年
排序：0

申論題資訊

試卷：108年 - 108 高等考試_三級_電子工程：半導體工程#77994
科目：半導體工程
年份：108年
排序：0

申論題內容

⑵在一光學微影製程（photolithography）系統，假如透鏡的直徑為 5.0 cm， 透鏡至影像的距離為 7.0 cm，若使用的紫外光波長為 350 nm，則此系 統的最小線距解析度（line resolution）為何？（10 分）