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試題詳解

試卷:113年 - 113-3 全國技術士技能檢定學科_甲級:03001 化學─無機物檢驗#131203 | 科目:技檢◆化學-無機物檢驗-甲級

試卷資訊

試卷名稱:113年 - 113-3 全國技術士技能檢定學科_甲級:03001 化學─無機物檢驗#131203

年份:113年

科目:技檢◆化學-無機物檢驗-甲級

複選題

66. 哪些方法通常可以有效降低 AA 光譜儀的化學干擾?
(A)在溶液中加入一個輻射緩衝溶液
(B)在溶 液中加入一個解離抑制劑
(C)在溶液中加入釋放劑
(D)使用 Zeeman 效應的儀器。

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詳解 (共 1 筆)

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未解鎖
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