18. 真空鍍膜法是在真空條件下將金屬、合金或其他化合物加熱熔化使之蒸發，或不經熔化而直接昇華，此時放在周圍的鍍件表面即被蒸發物覆蓋成膜，其優點不包括 (A)可用於電子工業的印刷電路排置 (B)因為光學性質好，可用於鍍透鏡，反射鏡等 (C)可以鍍不良導體(D)不能厚鍍。