試題詳解

試卷：113年 - 113 教育部自學進修專科學校學力鑑定考試試題_商業設計、室內設計、工業設計：基本設計#125589 | 科目：專科學力鑑定◆專(二)：基本設計

試卷名稱：113年 - 113 教育部自學進修專科學校學力鑑定考試試題_商業設計、室內設計、工業設計：基本設計#125589

年份：113年

科目：專科學力鑑定◆專(二)：基本設計

30. 圖(四)紐約古根漢美術館(The Solomon R.Guggenheim Museum)建築造型是屬於下列何種立體構成？

(A) 半立體構成
(B) 線立體構成
(C) 自由曲面構成
(D) 幾何曲面構成

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B1 · 2025/09/25

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