9.關於以記錄基底（record base）與咬合蠟堤（occlusal wax rim）決定垂直咬合高度（vertical dimension of occlusion）的敘述，下列何者錯誤？
(A)發S音時，如果上、下蠟堤會相互撞擊，有可能是垂直咬合高度太高
(B)發S音時，如果上、下蠟堤會相互撞擊，有可能是記錄基底不穩
(C)如果蠟堤的位置與形態不對，會影響以發音法決定垂直咬合高度的正確性
(D)以發S音比以吞嚥法決定之垂直咬合高度較低

答案：登入後查看
統計： A(48), B(54), C(7), D(519), E(0) #3379150

詳解 (共 2 筆)

#6317175
(D) 以發S音法（phonetic m...



(共 171 字，隱藏中）
前往觀看
15
0
#6298575
(D) 錯誤：發 S 音法通常會比吞嚥...
(共 206 字，隱藏中）
前往觀看
10
0

私人筆記 (共 2 筆)

私人筆記#6826817
未解鎖
"S sound" (Closest S...



(共 667 字，隱藏中）
前往觀看
11
0
私人筆記#6849874
未解鎖
吞嚥法（swallowing met...
(共 170 字，隱藏中）
前往觀看
10
0