題組內容

五、請回答下列關於電子級化學品製程生產問題：（每小題 7 分，共 28 分）

(三)說明光阻在光微影製程中的化學反應與應用。

詳解提供者：nomi

光阻在微影製程中的化學反應主要是光化學反應，依據反應的結果可分為正光阻和負光阻。正光阻曝光後會變得易溶於顯影液，而負光阻曝光後則會固化，變得不溶於顯影液。

這兩種光阻都能在基板上精確轉移圖案，應用於半導體製造、積體電路(IC)製造和微機電系統(MEMS)的生產。
(國立臺灣大學)