一、設 一 矽 二 極 體 pn 接面之摻雜濃度5bfdf8389e8aa.jpg與摻雜濃度5bfdf860dad85.jpg 且本質濃度 5bfdf94025de2.jpg ,試求於T= 300 K 時之內建 電壓V0、空乏區寬度Wdep與空乏區在 p 側及 n 側之延伸寬度。(25 分)