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申論題資訊

試卷:102年 - 102 高等考試_二級_電子工程:積體電路技術#44028
科目:積體電路技術
年份:102年
排序:0

題組內容

三、在一 P 型矽基板上,如以一 2P2M N-well(N-井)CMOS 製程為例,完成以下元件 之相關問題:

申論題內容

⑵如擬完成上述電阻之製作,考量到金屬層(M1)的連線,至少需要幾道光罩 (mask)?請按合理的製程先後次序,依序寫下這些光罩層的名稱與其使用目的。 (15 分)