試題詳解

7 下列關於專利申請之早期公開制度與實體審查之敘述，何者正確？
(A)設計專利申請得準用專利法第 37 條所規定之早期公開制度
(B)未自申請日後經過十八個月，發明專利申請人不得申請提早公開其申請案
(C)發明專利申請日後三年內，除專利申請人外，任何人均得向經濟部智慧財產局申請實體審查
(D)發明專利申請日後三年內，無人申請實體審查時，該發明專利申請案視為撤回