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申論題資訊

試卷:110年 - 110 國立臺灣大學_碩士班招生考試_電子工程研究所丙組:近代物理(含半導體物理)#105749
科目:研究所、轉學考(插大)-近代物理學
年份:110年
排序:0

題組內容

4. (18%) A metal-semiconductor contact is formed on Si (electron affinity X = 4.05 eV) with aluminum (work function Φm = 4.1 eV). The doping concentration of Si is 61de77e53bbd0.jpg

申論題內容

(a) (6%) Please plot the ideal band diagram of the Al-5i M-S junction and mark the Fermi level EF, the Schottky barrier height 61de78247cac5.jpg, and built-in potential barrier 61de7843940b5.jpg at equilibrium.