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試題詳解

試卷:111年 - 111-1 初級電路板製程工程師能力鑑定:電路板製造概論#111453 | 科目:電路板製造概論

試卷資訊

試卷名稱:111年 - 111-1 初級電路板製程工程師能力鑑定:電路板製造概論#111453

年份:111年

科目:電路板製造概論

6. 硬式電路板的銅箔製作,主要是以電化學析出的方法製作,電鍍銅 箔(ED、Electro-Deposited Copper Foil)是使用銅電鍍膜會析出在 電鍍鼓面上,剝下後捲成軸狀即成為生銅箔,生銅箔經過各種處裡 成為可出貨的熟箔方法中,下列銅箔的處裡中何者為非?
(A)瘤化處理(Nodulization Treatment);
(B)抗熱處理(Thermal Resistance Treatment);
(C)矽烷化處理(Silane Treatment);
(D) 防鏽處理(Anti-tarnish Treatment)
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