題組內容

四、設有一理想的 Si MOS 電容，維持在 T= 300 K，其元件相關參數如下 
1.閘極材料為 p+多晶矽（其功函數ΦB=5.2 ev） 
2.基板為 n 型矽且雜質摻雜濃度 ND 為 1018 cm -3 
3. SiO2的厚度 xox = 2 nm 試求：

(一)此 MOS 電容的平帶電壓（flat-band voltage），VFB 為何？（10 分）

詳解 (共 1 筆)

詳解 提供者：hchungw

613069ae1af6e.jpg