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材料分析
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108年 - 108 高等三級 材料分析#77936
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題組內容
一、X 光繞射分析為解析材料晶體結構常用的技術，
⑴請說明 X 光繞射原理。 （10 分）
其他申論題
一、何謂圖書定價銷售制度？與政府採購法的圖書折扣標採購有何不同？ 試分析對於圖書館採購有何影響？（25 分）
#316869
二、圖書館選購電子資源包括那些類型？何謂電子資源館藏發展政策？電 子資源館藏發展政策制訂要點為何？電子資源館藏發展政策與一般館 藏發展政策有何不同？（25 分）
#316870
三、國家圖書館自民國 107 年公布實施 RDA 新編目規則，試說明 RDA 編目 規則為何？採用何種概念模型？RDA 的組織結構為何？RDA 的實施影 響那些編目工作？（25 分）
#316871
四、何謂公開取用，試說明其定義與重要推動策略？有那些公開取用資源， 請列舉說明？我國電子化學位論文開放取用有何意義與問題？（25 分）
#316872
⑵當欲分析的樣品為薄膜時，一般會選用低掠角 X 光繞射儀，請 說明其原因。（5 分）
#316874
⑶若改以電子束進行繞射，所得繞射結果有何異同？ （10 分）
#316875
⑴請說明解析度的定義？（5 分）
#316876
⑵請說明以上兩種設備 之解析度主要決定因素分別為何？（10 分）
#316877
⑶請說明以上兩種方式形成 原子級解析度影像的機制。（10 分）
#316878
⑴請說明其分析原理， （10 分）
#316879
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