申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：110年 - 110 高等考試_三級_電子工程：半導體工程#102616
科目：半導體工程
年份：110年
排序：8

申論題內容

五、(一)和化學氣相沉積（atomic layer deposition, ALD）技術相比較，請說明原子層沉積技術的優點與缺點。