申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：102年 - 102 高等考試_三級_電子工程：半導體工程#39522
科目：半導體工程
年份：102年
排序：0

題組內容

五、在熱氧化製程中，分析發現氧化物厚度 x_ox 與氧化時間 t 之間的關係為下列的二次方程式：

申論題內容

⑴在剛開始氧化的初期，求氧化物厚度 x_ox =？（表示為 t 之函數）（5 分）