試題詳解

14. 針對電鍍銅槽液的管理，可以每週進行 2~3 次化學分析，做為調整及控制的 依據，以下何者並非其常用的檢測工具？
(A)循環式電量去除法(CVS)；
(B)哈氏槽(Halling Cell)；
(C)氧化還原電極電位 法(ORP)；
(D)賀氏槽(Hull Cell)。