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輸送現象與單元操作
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97年 - 97 專技高考_化學工程技師:輸送現象與單元操作#36336
> 申論題
題組內容
二、考慮一半徑為 R
1
導熱度為 k 電阻為 R
e
通電電流密度為 I 的電線,將之以導熱度為 k
i
的 絕緣物包覆,包覆後之總半徑為 R
2
。通電所生之熱量由絕緣物表面以對流方式排出, 此對流機制可以一熱傳係數 h 表現,外界溫度為 T
a
。通電所生熱速率以 S
e
表示,且假 定電線與絕緣物間有完美的熱接觸。
⑴決定電線與絕緣層之溫度分布。 (12 分)
相關申論題
⑴推導流體之剪切應力(shear stress)分布與流速分布。(10 分)
#100554
⑵決定其剪切應力為零之位置及最大流速發生之位置。此兩位置會相同或不同?解 釋之。(10 分)
#100555
⑵如果要得到一最低的電線與絕緣物介面溫度,R2應滿足何條件? (8 分)
#100557
⑵寫出 Re 與 Sc 之定義式並說明 Re 與 Sc 之物理意義。(6 分)
#100559
⑶對一同時存在有動量與質量傳遞邊界層的系統而言,若其 Sc 大於 1,則針對同一 位置,那一個邊界層厚?從物理的角度說明之。(4 分)
#100560
四、針對乾燥過程,試以含水率對乾燥時間作圖,在圖中標示出不同乾燥階段,並說明 各不同乾燥階段之特徵及原因。(20 分)
#100561
⑴在結晶程序中,第一步就是要造成溶液之過飽和,試討論達成溶液過飽和的方式及 其背後之原理。(10 分)
#100562
⑵何謂溼球溫度?試說明達到溼球溫度之原理。(10 分)
#100563
(三)在填充塔的吸收操作中,說明何謂負載(loading)現象。(5 分)
#557728
(二)離開塔底溶劑中 H2S 的莫耳分率。 (8 分)
#557727
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