阿摩線上測驗
登入
首頁
>
半導體工程
>
112年 - 112 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#118133
> 申論題
題組內容
一、
(一)請分別敘述在外質半導體中何謂「完全解離(complete ionization)」及「凍結(freeze-out)」?(10 分)
相關申論題
(二)請輔以數學表示式說明在半導體中「質量作用定律(mass-action law)」 之物理意義。(5 分)
#504188
(一)請輔以數學表示式說明影響半導體「漂移電流密度(drift current density)」之因素為何?(5 分)
#504189
(二)請分別說明影響半導體中載子移動之「晶格散射(lattice scattering)」及「游離雜質散射(ionized impurity scattering)」之物理意義及其溫度效應。(10 分)
#504190
(一)請以數學表示式定義 p-n 接面之「內建電位(Vbi, built-in potential)」。 (5 分)
#504191
(二)請繪出 p-n 接面其分別在逆向偏壓、順向偏壓之能帶圖(energy-band diagram),並說明其整流(rectification)特性。(10 分)
#504192
(一)請敘述「基極寬度調變效應(base width modulation effect)」,並說明其對於 BJT 輸出電導(go)之影響。(10 分)
#504193
(二)請敘述「高注入效應(high injection effect)」,並說明其對於 BJT 共射極電流增益(β)之影響。(10 分)
#504194
(一)若分別以介電層 Ta2O5 及 SiO2 作為電容,且 Ta2O5:SiO2之厚度比 2:1、面積比為 3:1,試求其電容比?(5 分)
#504195
(二)假設以厚度為 3t 微米之 Ta2O5 作為介電層之電容值為 C1;另以各層厚度均分別為 t 微米之 SiO2/S3N4/SiO2作為介電疊層之電容值為 C2。假設兩者具有相同面積,試計算 C1/C2 之比值?(10 分)
#504196
六、矽 p-n 接面在 T = 300 K 之施體雜質與受體雜質濃度分別為 ND = 1015 cm-3 及 ND = 1016 cm-3,且未施加電壓;本質載子濃度 ni = 1.5 × 1010 cm-3。試求空乏區寬度及最大電場強度分別為?(20 分) [kT_300K = 0.0259 eV 、單位電 量 q = 1.6 × 10-19 C 、 介電常數為 11.7ε0(ε0 = 8.85 × 10-14 F/cm)]
#504197
相關試卷
114年 - 114 地方政府公務特種考試_三等_電子工程:半導體工程#134688
114年 · #134688
114年 - 114 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#128721
114年 · #128721
114年 - 114 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#128720
114年 · #128720
113年 - 113 地方政府公務特種考試_三等_電子工程:半導體工程#124513
113年 · #124513
113年 - 113 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#121484
113年 · #121484
112年 - 112 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#118133
112年 · #118133
112年 - 112 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#115437
112年 · #115437
111年 - 111 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#112359
111年 · #112359
111年 - 111 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#109458
111年 · #109458
111年 - 111 鐵路特種考試_高員三級_電子工程:半導體工程#108533
111年 · #108533