阿摩線上測驗
登入
首頁
>
半導體工程
>
103年 - 103 鐵路特種考試_高員三級_電子工程:半導體工程#39793
> 申論題
題組內容
三、有一 n 通道增強型(enhancement type)MOSFET,其 i
D
-V
DS
特性曲線,當電晶體工 作於飽和區(Saturation region)時,其 i
D
仍隨V
DS
增加而增加。請問:
(3) 若此電晶體連接成共源極(common source)型式,請畫圖說明其小訊號等效電路 模型(Small signal equivalment circuit models)。(8 分)
相關申論題
一、在溫度 300K 的環境,一 n 型(n–type)矽晶圓,其摻雜磷(Phosphorus)之濃度為 3x1017 atoms/cm3,假設其摻雜之雜質均勻分布於晶圓,同時摻雜雜質完全游離化 (complete ionization),有效導帶能態密度(effective density of states in the conduction band)NC=2.86X1019 cm-3 ,有效價帶能態密度(effect density of states in the valence band) NV=2.6X1019cm-3,請計算及畫圖說明此晶圓之費米能階(Fermi level, EF)和導 電帶(conduction band,Ec )最低點之電子伏特(eV)差值。(20 分) (常數 k = 1.38066 X 10-23 J K )
#119880
(1)iD 仍隨 VDS增加而增加,其主要原因是什麼效應產生的?(6 分)
#119883
(2)請說明此效應之原理。(6 分)
#119884
四、目前業界製作發光二極體(Light emitting diode, LED)或雷射二極體(Laser diode, LD)元 件,最常用的磊晶方法為有機金屬化學氣相沉積法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD),而較早期的磊晶技術液相磊晶法(Liquid Phase Epitaxy, LPE),亦 可製作 LED 或 LD 元件,請說明以 MOCVD 和 LPE 來比較,MOCVD 法製作的優 勢為何?(20 分)
#119886
五、請比較矽(Si)晶圓及砷化鎵(GaAs)晶圓用來製作積體電路晶片(IC chip)之優 缺點。(20 分)
#119887
五、隨著技術節點持續微縮,曝光技術亦不斷演進。請說明自曝光波長λ=248 nm KrF 以降,至鰭式場效電晶體(FinFET)時代,如何運用各種 不同的曝光技術與圖案化方法來實現更微小的電路圖案。(20 分)
#560352
(二)如何從汲/源極設計的角度來抑制短通道效應?並說明此方法可能導致的副作用。(12 分)
#560351
(一)請說明為何金氧半場效電晶體(MOSFET)的長通道與短通道元件之臨界電壓會有所不同。(8 分)
#560350
(二)請計算 t =0 秒時準費米能階相對於本質費米能階的能量差,並在能帶圖上標示出來。(10 分)
#560349
(一)在 t =0 秒時,多數載子和少數載子的濃度各為多少?(10 分)
#560348
相關試卷
114年 - 114 地方政府公務特種考試_三等_電子工程:半導體工程#134688
114年 · #134688
114年 - 114 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#128721
114年 · #128721
114年 - 114 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#128720
114年 · #128720
113年 - 113 地方政府公務特種考試_三等_電子工程:半導體工程#124513
113年 · #124513
113年 - 113 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#121484
113年 · #121484
112年 - 112 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#118133
112年 · #118133
112年 - 112 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#115437
112年 · #115437
111年 - 111 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#112359
111年 · #112359
111年 - 111 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#109458
111年 · #109458
111年 - 111 鐵路特種考試_高員三級_電子工程:半導體工程#108533
111年 · #108533