申論題 - 阿摩線上測驗

申論題資訊

試卷：110年 - 110 地方政府特種考試_三等_電子工程：半導體工程#104839
科目：半導體工程
年份：110年
排序：0

五、舉出兩種乾式蝕刻（dry etch）法，說明其工作之原理。並說明乾式蝕刻為何能夠達到具高深寬比的非等向性（anisotropic）蝕刻。（20 分）