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107年 - 107 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#71146
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申論題
試卷:107年 - 107 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#71146
科目:半導體工程
年份:107年
排序:0
申論題資訊
試卷:
107年 - 107 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#71146
科目:
半導體工程
年份:
107年
排序:
0
申論題內容
六、請分別說明:短通道效應(short-channel effect)及窄通道效應(narrow-channel effect) , 對於金屬-氧化物-半導體場效電晶體(MOSFET)臨界電壓(threshold voltage, V
T
) 之影響?(10 分)
詳解 (共 1 筆)
詳解
提供者:hchungw
短通道效應(英語:short-channel effects)是當金屬氧化物半導體場效應管的導電溝道長度降低到十幾奈米、甚至幾奈米量級時,電晶體出現的一些效應。這些效應主要包括閾值電壓隨著溝道長度降低而降低、漏致勢壘降低、載流子表面散射、速度飽和、離子化和熱電子效應。
短通道效應 - 維基百科,自由的百科全書 (wikipedia.org)