阿摩線上測驗
登入
首頁
>
半導體工程
>
100年 - 100 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#39997
> 申論題
四、在一半導體材料中,請寫出電洞之連續方程式(continuity equation),並定義各參 數及說明方程式中各項之物理意義。(10 分)
相關申論題
一、請繪出典型之導體、半導體、絕緣體之能帶圖(energy band diagram),並簡述該能 帶圖所代表之意義。(15 分)
#121490
二、在一均勻半導體材料中,其本質載子濃度(intrinsic carrier concentration)為ni、 本質費米能階(intrinsic Fermi energy)為Ei、費米能階(Fermi energy)為EF,當 絕對溫度為T,而Boltzmann常數為kB時,其自由電子(electron)濃度n為何?電洞 (hole)濃度p為何?若此半導體材料為n型,其摻雜濃度ND為 1016/cm3而ni = 1.45 × 1010/cm3時,求電洞之濃度。(10 分)
#121491
三、在一半導體材料中,請寫出電子電流流動方程式(current flow equation),並定義 各參數及說明方程式中各項之物理意義。(15 分)
#121492
五、一 p-n 接面二極體(junction diode)在交換應用(switching application)之順向 (forward)與逆向偏壓(reverse bias)切換時具電容(capacitance)效應,請說明 順向與逆向偏壓時之電容效應及物理意義。(10 分)
#121494
六、請繪出n通道MOSFET之典型電流(ID)-電壓(VDS, VGS)特性圖,並說明其原理。( 15 分)
#121495
七、請列出兩種在矽(Si)基片上成長氧化層的方法,並簡述其成長原理及兩者成長膜 之性質差異。(15 分)
#121496
八、請列出兩種在半導體基片上摻雜雜質(impurity)的方法,並簡述其原理及兩者摻 雜之性質差異。(10 分)
#121497
五、隨著技術節點持續微縮,曝光技術亦不斷演進。請說明自曝光波長λ=248 nm KrF 以降,至鰭式場效電晶體(FinFET)時代,如何運用各種 不同的曝光技術與圖案化方法來實現更微小的電路圖案。(20 分)
#560352
(二)如何從汲/源極設計的角度來抑制短通道效應?並說明此方法可能導致的副作用。(12 分)
#560351
(一)請說明為何金氧半場效電晶體(MOSFET)的長通道與短通道元件之臨界電壓會有所不同。(8 分)
#560350
相關試卷
114年 - 114 地方政府公務特種考試_三等_電子工程:半導體工程#134688
114年 · #134688
114年 - 114 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#128721
114年 · #128721
114年 - 114 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#128720
114年 · #128720
113年 - 113 地方政府公務特種考試_三等_電子工程:半導體工程#124513
113年 · #124513
113年 - 113 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#121484
113年 · #121484
112年 - 112 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#118133
112年 · #118133
112年 - 112 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#115437
112年 · #115437
111年 - 111 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#112359
111年 · #112359
111年 - 111 高等考試_三級_電子工程:半導體工程#109458
111年 · #109458
111年 - 111 鐵路特種考試_高員三級_電子工程:半導體工程#108533
111年 · #108533