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半導體工程
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94年 - 94-2 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#40632
> 申論題
四、在双異質接面(Double heterojunction)半導體雷射結構中,請說明双異質結構較優 於同質接面(Homojunction)結構之優點,並說明其原因。(20 分)
相關申論題
一、在本質(Intrinsic)矽晶體中,請說明使其變成 n 型矽晶體的兩種方法,並說明其製 作過程及形成 n 型矽晶體的機制。(20 分)
#125625
二、請描繪空乏型 n 通道金屬-半導體場效電晶體(Depletion mode n-channel metal- semiconductor field effect transistors, MESFETs)之結構圖,並說明其工作原理及電流 電壓曲線圖。(20 分)
#125626
三、砷化鎵之能隙(Energy gap)及電子親和力(Electron affinity)分別為 1.42eV 及 4.07eV,以金屬之功函數(work function)而言,為在 n 型砷化鎵製作優良的蕭特 基接觸(Schottky contact),請說明需選用何種金屬,並以能帶圖說明其工作機制 及原理。(20 分)
#125627
五、就 npn 電晶體而言,請說明形成基極(base)電流的兩個電流分量,並說明其物理 機制。(20 分)
#125629
五、隨著技術節點持續微縮,曝光技術亦不斷演進。請說明自曝光波長λ=248 nm KrF 以降,至鰭式場效電晶體(FinFET)時代,如何運用各種 不同的曝光技術與圖案化方法來實現更微小的電路圖案。(20 分)
#560352
(二)如何從汲/源極設計的角度來抑制短通道效應?並說明此方法可能導致的副作用。(12 分)
#560351
(一)請說明為何金氧半場效電晶體(MOSFET)的長通道與短通道元件之臨界電壓會有所不同。(8 分)
#560350
(二)請計算 t =0 秒時準費米能階相對於本質費米能階的能量差,並在能帶圖上標示出來。(10 分)
#560349
(一)在 t =0 秒時,多數載子和少數載子的濃度各為多少?(10 分)
#560348
(三)請說明各電流形成之機制。(8 分)
#560347
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