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申論題資訊

試卷:109年 - 109 地方政府特種考試_三等_電子工程:半導體工程#94892
科目:半導體工程
年份:109年
排序:0

申論題內容

四、請說明磊晶成長(epitaxial growth)、異質磊晶成長(hetero-epitaxial 、以及晶格不匹配(lattice mismatch) growth) 。如何利用異質磊晶成長對 磊晶薄膜產生應變(strain)?(20分)

詳解 (共 1 筆)

詳解 提供者:hchungw

磊晶(英語:Epitaxy),是指一種用於半導體元件製造過程中,在原有晶片上長出新結晶以製成新半導體層的技術。此技術又稱磊晶成長(Epitaxial Growth),或指以磊晶技術成長出的結晶,有時可能也概指以磊晶技術製作的晶粒。

磊晶技術可用以製造電晶體CMOS積體電路等各種元件,尤其在製作化合物半導體例如砷化鎵磊晶晶圓時,磊晶尤其重要。磊晶 (晶體) - 維基百科,自由的百科全書 (wikipedia.org)