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申論題

試卷：98年 - 98 地方政府特種考試_三等_電子工程：半導體工程#39790
科目：半導體工程
年份：98年
排序：0

申論題資訊

試卷：98年 - 98 地方政府特種考試_三等_電子工程：半導體工程#39790
科目：半導體工程
年份：98年
排序：0

申論題內容

⑵請說明反應性離子蝕刻（Reactive Ion Etch）的原理，並說明其是否為選擇性和等 向性蝕刻。（10 分）