題組內容

五、對於一本質（Intrinsic）的矽半導體，進行淺層摻雜（Shallow doping）主要有擴散 與離子佈植兩種技術。

⑵通常在離子佈植過程中有所謂的通道效應（Channeling effect），通道效應是什麼？ 對元件特性有什麼影響？（15 分）