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積體電路技術
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97年 - 97 高等考試_二級_電子工程：積體電路技術#49064
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題組內容
四、請解釋下列名詞：（每小題 8 分，共 48 分）
⑶ LDD structure
其他申論題
二、在實際應用中除第一題中所提及的 NAND 型快閃記憶體，尚有一種 NOR 型快閃記 憶體，試說明此兩者之間電路架構的相異之處，（10 分）並詳述此二種記憶體之各 自應用範圍有何不同。（10 分）
#172046
三、以一 N-well CMOS 製程為例，說明製作一 PMOS 電晶體所需之各項步驟。（20 分）
#172047
⑴ Diffusion
#172048
⑵光阻
#172049
⑷ Hot electron
#172051
⑸ Tunneling
#172052
⑹ E-beam lithography and its advantage
#172053
一、觀護人應用測驗，主要是基於那些目的或功能？（25 分）
#172054
二、請說明觀護人進行個案研究時，如何採用測驗等多種方式，蒐集與整合個案的多方 面資料，方能瞭解個案之個性與心理適應情形？（25 分）
#172055
三、那些人格特質或傾向與犯罪較有關係？如何測量此等人格傾向？（15 分）
#172056
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